一、表面形貌儀的介紹：
表面形貌儀采用的白光共聚焦技術，Z高掃描速度可達1m/s，可實現(xiàn)對材料表面從納米到毫米量級的粗糙度測試，具有測量精度高，速度快，重復性好的優(yōu)點，測量不受樣品反射率和光的影響，測量簡單，可用于測量大尺寸樣品，如透明、金屬材料，半透明、高漫反射，低反射率、拋光、粗糙材料等，主要應用于半導體材料、太陽能電池、醫(yī)療工程、制藥、生物材料，光學元件、陶瓷和先進材料的研發(fā)。
二、測量原理：
低相干白光同時照射樣品和參考平面，被樣品和參考平面反射的兩束白光發(fā)生干涉后由陣列式CMOS探測器接收，由于探測器直接與信號處理芯片（Smart Pixel技術）連接，所以陣列上每個像素點的信號都在芯片中完成鎖相放大，背景信號補償和結果計算輸出，成像于計算機就實現(xiàn)了樣品表面的快速三維形貌測量。
三、在工業(yè)領域的應用：
食品安全在線檢測。