商鋪名稱:武漢三工光電設備制造有限公司營銷部
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SEF-G5:激光刻膜機
激光刻膜機的產品特點:半導體端面泵浦光纖耦合全固態(tài)激光器;膜面朝上非接觸式工作臺;直線電機驅動;四路同步輸出;自動識別跟蹤定位;自動進出料;在線監(jiān)測;靜態(tài)顯示
激光刻膜機的技術參數(shù):
型號規(guī)格:SEF-G5
有效加工幅面:1.1m×1.4m(或635mm×1245mm )
最大運行速度:2000mm/s
重復定位精度:±10μm
刻線直線度:±10μm / 1000 mm
典型刻膜線寬:30~60μm
三線外沿總寬度:300~500μm
激光刻膜機的選項和配件:
高標配,可根據(jù)需要移除不需要的部件。
激光刻膜機的應用和市場:非晶硅薄膜太陽電池的透明導電膜(SnO2、AZO、ITO)、非晶硅膜系(a-Si、μc-Si)、背電極膜(ZnO、Al)等的激光刻膜(刻線、切割),其它薄膜電池的膜層刻膜(金屬鉬Mo薄膜、金屬鎳Ni薄膜、碲化鎘CdTe薄膜)。