產品特點：坩堝內部真空環(huán)境，能在多種氣氛下工作，50段程序控溫

升溫快速度：0~30℃/min（建議15℃）

控溫方式：50段智能化程序PID模糊控制

恒溫精度：±1℃

控溫儀表：智能溫控儀

密封方式：磁流體密封攪拌系統(tǒng)與坩堝，頂部帶有雙層水冷；側面進料與流料，流料口法蘭密封

爐膛：氧化鋁多晶纖維爐膛，設計合理，，保溫性能好，節(jié)能

主要配件：密封法蘭1套，坩堝1個，真空泵1臺，高溫手套1副,熱電偶1根

真空極限：≤0.1MPa

此系列堝爐可電動控制爐體傾斜出料，爐膛內部為不銹鋼坩堝，頂部配有攪拌系統(tǒng)，整個坩堝為密封狀態(tài)，可實現(xiàn)真空與氣氛燒結。

該系列設備的控制系統(tǒng)具有，操作簡單，控溫精度高，保溫效果好，爐膛溫度均勻性高，可通氣氛抽真空等特點，應用于高等院校，科研院所，工礦企業(yè)等實驗和小批量生產。

真空井式坩堝爐以電阻絲或者硅碳棒為加熱元件，采用雙層殼體結構和智能化程序控溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間配有風冷系統(tǒng)，能快速升降溫，具有真空和攪拌裝置，該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點。

主要用途：高校、科研院所、工礦企業(yè)主要用于煅燒真空或惰性氣體中的高純度化合物，退火或擴散半導體晶片，也可以用于烘燒或燒結陶瓷材料等。