CVD爐(SiC膜)氣相沉積爐-西尼特(北京)電爐有限公司
CVD爐(SiC膜)氣相沉積爐-西尼特(北京)電爐有限公司
產(chǎn)品價(jià)格:¥面議(人民幣)
  • 規(guī)格:
  • 發(fā)貨地:北京
  • 品牌:
  • 最小起訂量:1臺(tái)
  • 誠(chéng)信商家
    會(huì)員級(jí)別:金牌會(huì)員
    認(rèn)證類型:未認(rèn)證
    企業(yè)證件:未通過(guò)
    認(rèn)證信息:未認(rèn)證

    商鋪名稱:西尼特(北京)電爐有限公司

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    商品詳情
      產(chǎn)品描述:
      CNT公司生產(chǎn)的CVD設(shè)備主要由全真空專用不銹鋼腔體,分子泵高真空系統(tǒng),電源,生長(zhǎng)機(jī)體載體及溫控系統(tǒng),獨(dú)立排氣和生長(zhǎng)壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng),冷卻循環(huán)水輔助設(shè)備等組成。整機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊、操作方便、抽真空速度快。此設(shè)備控制系統(tǒng)采用邏輯按鈕手動(dòng)控制與工控機(jī)自控控制可選。實(shí)現(xiàn)真空抽氣和鍍膜工藝一體化功能。此設(shè)備可用于制作SiO2、Si3N4、非晶Si:H、多晶Si、SiC、W、Ti-Si、GaAs、GaSb等介電、半導(dǎo)體及金屬膜等。
       
      ※技術(shù)指標(biāo):
       
       參 數(shù) 名 稱
      單   位
      配置
      沉積類型
       
      碳化硅,氮化硅
      電   源
       
      射頻電源,帶正向功率和反射功率計(jì)指示,帶匹配器
      加熱系統(tǒng)
       
      平板式雙反應(yīng)室系統(tǒng),帶加溫和勻氣系統(tǒng)
      工 作 溫 度
      1300~1800℃
      基片臺(tái)尺寸
      (φ×H)mm
      1英寸、二英寸、三英寸、四英寸
      基片臺(tái)轉(zhuǎn)速
       
      轉(zhuǎn)速0-20RPM
      控 溫 精 度
      ±1
      極限真空
      pa
      6.67.0×10-5
      密封系統(tǒng)
       
      磁流體密封
      水冷、氣路系統(tǒng)
       
      冷卻水循環(huán)機(jī)、無(wú)噪聲氣泵
      報(bào)警及保護(hù)
       
      對(duì)缺水、過(guò)流過(guò)壓、斷路等異常情況進(jìn)行報(bào)警及相應(yīng)保護(hù)措施
      真空系統(tǒng) 
      (選 配)
      真空系列
      單級(jí)機(jī)械泵、擴(kuò)散泵機(jī)組、分子泵
      工作腔體
      不銹鋼
      氣氛系統(tǒng)
      浮子流量計(jì)、進(jìn)口、國(guó)產(chǎn)質(zhì)量流量計(jì)
      記錄裝置
      進(jìn)口、國(guó)產(chǎn)無(wú)紙記錄儀
      備注:西尼特可根據(jù)閣下要求提供各種非標(biāo)產(chǎn)品的設(shè)計(jì)制造,歡迎來(lái)函、來(lái)電咨詢!   
            24小時(shí)熱線:400-668-6260   18610138965    Fax:010-51418223
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